中国最强刻蚀机厂:台积电买了800多台设备,3-45nm都在用_尹志尧_半导体_博士
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芯片制造过程之中,需要几百种设备。而光刻、刻蚀这两道工序是用时最长,最为复杂,且设备成本也是最高的。
光刻机很重要,刻蚀机也一样重要,光刻机是将芯片图案刻录到硅晶圆上,而刻蚀机则是将刻录好的芯片上,不需要部分去掉,可以与光刻是对应的。
光刻机领域,国内的技术确实落后ASML太多,综合来看,落后10年以上,应该是问题不大的。
但刻蚀机这一块,国内的技术却是全球顶尖的,根本就不逊色于全球的任何厂商,原因是我们有一家顶级的刻蚀机厂商-中微公司。
这家企业,由被誉为“中国刻蚀机之父”的尹志尧博士创办。
在2004年的时候,当时已经60岁的尹志尧博士,看到中国半导体产业高速发展,但半导体设备(刻蚀、沉积等)几乎全被海外垄断(应用材料、泛林、东京电子),是卡脖子最严重的环节。
可以说国家最迫切的需求本土的半导体设备,避免被卡脖子,于是本来退休的尹志尧博士,从美国带了15 位硅谷资深爱国华人专家回国创业,这些人这些人之前很多在应用材料等顶级的半导体设备企业工作过,有着大量的经验,有着深厚的技术,平均行业经验20 年 +。
虽然回国从0开始,仅仅3年,就打破了国外刻蚀机领域的长期垄断,研发出了中国人自己的刻蚀机。虽然后来被应用材料等打压,使出了各种招,但不仅没有压住,反而让中微成长更为迅速。
甚至中微还首创了甚高频去耦合反应离子刻蚀技术,这个技术目前已经成为了所有CCP刻蚀机都在使用的技术。
目前中微刻蚀机,已经进入了台积电的供应链。
按照尹志尧博士的说法,台积电最先进的生产线上,也使用中微的刻蚀机,有中微800多个反应台,从45纳米到3纳米都在用中微的机器,作为全球最顶级的晶圆厂,台积电使用中微的设备,就足以证明中微有多强了。
当然,中国大陆的晶圆厂也在使用中微的设备,尹志尧博士称,中芯也使用了中微至少800多台设备。
并且大家不知道的是,目前中微实现了全供应链的100%自主化,不用担心任何人卡脖子,不会担心国外不提供元件什么的,不怕国外卡住了生产设备,因为根本就不需要,全部国产化了。
所以说,并不是中国自己研发不出好的半导体设备出来,只要肯努力,都是没问题的,像中微这样的企业,还有像北方华创这样的企业,多几家,那么中国在芯片设备上,就可以减少对外依赖,那么所谓的禁令,也就毫无意义了。返回搜狐,查看更多
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